Halbleiterofenrohre (wie sie in Diffusionsöfen, Oxidationsöfen usw. verwendet werden) müssen strenge Anforderungen erfüllen, wie z. B. ultrahohe Reinheit, hohe Temperaturstabilität und Wärmeschockbeständigkeit. RSiC-Ofenrohre haben sich aufgrund ihrer hervorragenden Eigenschaften zu einem gängigen Material entwickelt. Die Reinheit des Sinterkörpers liegt über 3N und die Verarbeitungsgenauigkeit beträgt 0,01 mm.
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RSiC-Ofenrohr: Rekristallisierte Siliziumkarbid-Ofenrohre sind eine Schlüsselkomponente in der Halbleiterfertigung und werden hauptsächlich in Hochtemperatur-Prozesskammern (wie Epitaxie, Ionenimplantation, Diffusionsöfen usw.) eingesetzt. Die Reinheit des Sinterkörpers liegt über 3 N, und die Verarbeitungsgenauigkeit kann 0,01 mm erreichen, wodurch die Anforderungen an ultrahohe Reinheit, Korrosionsbeständigkeit und Präzisionsgröße erfüllt werden.
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